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产品简介
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS
Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells
Throughput: >475 wafers/hr
SiNx uniformity: < ?5%
产率：>475硅片/小时。
氮化硅膜不均匀性：< 5%。
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