热丝薄膜沉积设备

MVSystems 公司设计，制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外，根据用户的需求，各种PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以单个制造，也可配备到现有的团簇型（星型）或是直线型沉积系统。MVSystems具有制造用于各类研发，中试以及小型生产设备的强大能力和丰富经验，所生产的设备已成功地使用在全世界23个国家的大学，研究院所和公司。我们公司的工程部门可**限度地为用户着想，以使用户们获取他们*需要的且价格合适的设备。

作为设备销售的一部分，我们还能向用户保证薄膜半导体材料具有**光电子性能参数。这些材料包括非晶硅，纳米硅（微晶硅），介质材料（比如氮化硅和氧化硅）和透明导电膜。

MVSystems 拥有各类研发设施和技术人员，具备开发各种光电子薄膜技术的能力。

研发: 可以为全球的大学，政府研究机构和公司提供服务。

代工服务: 使用计算机控制的大面积团簇型（星型）等离子辉光放电（PECVD）/溅射系统，MVSystems 公司可以为用户提供如下各类薄膜材料和器件，包括：

研发设施: 在公司实验室内配置了具有高度安全性的监测系统用于监控和处理各类危险有毒气体，比如硅烷等。

(1) 大面积团簇型薄膜沉积系统：**衬底面积可达30厘米×40厘米，具有6个PECVD腔室（配有射频，甚高频电源以及具有脉冲调制功能）和1个双靶位溅射系统（配有直流和射频电源），以及多片仓位功能。整个操作可由电脑控制。

(2) 热蒸发系统用于制作金属电极。

(3) 太阳电池测试系统：配有符合AM1.5G光谱的氙灯光源。可用于测量电池的光暗I-V曲线和量子效率。也可用作测试各类半导体薄膜的光暗电导率以及γ参数。

(4) 电导率激活能测试系统。

(5) 红外光谱测试仪。

(6) 紫外至红外光的透射和反射测量仪，配置有积分球。

(7) 椭偏仪用于测量薄膜厚度和介电常数。

(8) 台阶仪用于测量薄膜厚度。

(9) 光发射谱仪用于实时监控等离子体过程。

(10) 各种光源，滤波片，示波仪，显微镜以及其它实验室通用仪器。