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光学仪器及设备
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变温霍尔效应测试仪
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制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备
在线式HIT用PECVD MVS
卷对卷柔性薄膜沉积设备MVS
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半导体行业专用仪器
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膜厚光谱分析仪系统
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反射式膜厚测量仪
Sinton Instruments+BCT400+少子寿命测试仪
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相关仪表
WCT-120PL产品分别采用标准QSSPC方法和光致发光法测量硅片的载流子寿命
单锥拉锥系统
保偏光纤耦合器熔融拉锥机
普通单模光纤拉锥系统
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电化学ECV +掺杂浓度PN结深测试+CVP21
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制样/消解设备
溅射设备MVS
无损检测/无损探伤仪器
CoreScan、Sherescan电池片面电阻测试系统
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产品系列
产品描述
产品特点:
? 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析。
? 高性能的低价光学薄膜测量仪。
? 藉由**反射率光谱分析膜厚。
? 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能。
? 无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手。
? 非线性*小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。
产品规格:
型号 | FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR | |
对应膜厚 | 标准型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 超厚膜型 |
样品尺寸 | **8寸晶圆(厚度5mm) | |||
膜厚范围 | 100nm~40μm | 10nm~20μm | 3μm~30μm | 15μm~1.5mm |
波长范围 | 450nm~780nm | 300nm~800nm | 900nm~1600nm | 1470nm~1600nm |
膜厚精度 | ±0.2nm以内 | ±0.2nm以内 | - | - |
重复再现性(2σ) | 0.1nm以内 | 0.1nm以内 | - | - |
测量时间 | 0.1s~10s以内 | |||
测量口径 | 约Φ3mm | |||
光源 | 卤素灯 | UV用D2灯 | 卤素灯 | 卤素灯 |
通讯界面 | USB | |||
尺寸重量 | 280(W)×570(D)×350(H)mm,约24kg | |||
软件功能 | ||||
标准功能 | 波峰波谷解析、FFT解析、*适化法解析、*小二乘法解析 | |||
选配功能 | 材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析 |
应用范围:
? 半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)
? 光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)
应用范例:
? PET基板上的DLC膜
? Si基板上的SiNx